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ACM 리서치가 중국 소재 글로벌 종합반도체 기업(IDM)으로부터 습식 스트리핑 장비 ACM ‘Ultra C’ 모델에 대한 2건의 주문을 받았다고 밝혔다. 해당 IDM 장비를 웨이퍼 레벨 패키징의 포토레지스트(PR) 제거 용도로 사용할 예정이다. ACM202110월에 1차 납품을 완료하고, 20221분기에 2차 납품한다고 밝혔다.

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ACM 리서치 데이비드 왕(David Wang) 대표이사 CEO“ACM 리서치는 코터(coater), 디벨로퍼(developer), 에처(etcher), 포토 레지스트  스트리퍼에서 구리 도금 장비까지 WLP 애플리케이션을 위한 습식 공정 툴 전체 라인업을 제공한다. 지금까지 ACMWLP 장비는 중국 기반 제조회사들에게서는 널리 인정받아왔으며, 주요 글로벌 IDM으로부터 WLP 습식 장비 주문을 받은 것은 이번이 처음이라고 밝히고, 이는 시장에서 ACM 리서치의 기술력과 생산 규모를 재평가하는 계기가 될 것이며, ACM 리서치 내 습식 공정 기술 전문가 팀의 헌신적 공헌을 통해 이러한 발전이 뤄진 것에 대해 기쁘게 생각한다. 향후 WLP 제품에 대한 글로벌 고객사 추가 기회가 확대되길 기대한다고 덧붙였다.

 

ACM 리서치의 Ultra C 포토레지스트 습식 스트리핑 장비는 WLP공정의 효율성 증대, 정밀 제어, 안전성 및 처리량 증대를 목적으로 제작되었다. 이 장비는 효율성을 극대화하기 위해 싱글 웨이퍼 공정 및 습식 침수조와 결합할 수도 있다. 이 장비만 단독으로 사용할 수도 있지만, 두껍고 제거하기 어려운 포토레지스트 코팅을 제거하기 위해 ACMSAPS 메가소닉 세척 장비와 함께 사용하면 더욱 효과적이다.

 

#ACM#포토레지스트#웨이퍼#습식#스트리핑#

 
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