- FAME 300 시리즈, 스토캐스틱 결함에 대한 실시간 모니터링을 제공

- HVM 팹에서 단 몇 분만에 잠재적인 공정 문제를 파악하도록 지원

 

 

 

스토캐스틱(stochastic) 기반 분석과 제어를 이끌어가는 차세대 반도체 산업 주자 프랙틸리아는 자사의 FAME(Fractilia Automated Measurement Environment) 포트폴리오에 최신 제품인 FAME 300을 추가한다고 밝혔다.

 

대량 제조(HVM) 팹 환경에서의 사용을 위해 특별히 설계된 FAME 300은 첨단 노드 공정에서 패터닝 오류의 주된 원인인 스토캐스틱 효과를 실시간으로 측정, 감지 및 모니터링 할 수 있다. FAME 300을 사용할 경우 팹에서 스토캐스틱 변이로 인해 발생하는 잠재적 공정 문제를 단 몇 분만에 파악할 수 있어, 신속한 수정 조치를 통해 자사의 패터닝 공정에 대한 제어를 개선하고 수율을 최적화할 수 있다.

 

FAME 300은 프랙틸리아의 FILM(Fractilia Inverse Linescan Model) 특허 기술을 활용한다. 이 기술은 임계선폭(Critical Dimension) 측정뿐 아니라 거칠기를 포함한 다양한 스토캐스틱 효과를 고도로 정확하고 정밀하게 측정할 수 있는 유일한 팹 솔루션이다.

 

프랙틸리아의 제품은 반도체 제조사, 장비 회사 및 반도체 원재료 공급사의 연구 개발 및 공정 개발 환경에서 이미 검증되었으며, 수행된 모든 측정은 연구 개발 단계에서 HVM 단계로 이전될 수 있으며 완전 자동화가 가능하다.

 

프랙틸리아의 크리스 맥(Chris Mack) CTO는 “반도체 업계가 지속적인 미세화를 통해 무어의 법칙을 계속 유지해 나가고자 함에 따라 업계 선도적인 팹들은 갈수록 악화할 뿐인 스토캐스틱 변동이 크게 늘어나는 것을 경험하고 있다. 신규 팹 공정이 우수한 수율을 나타낼 수 있도록 제어하기 위해서는 스토캐스틱에 대한 정확한 측정이 필요하다”고 밝히고, “프랙틸리아는 FILM 측정 엔진을 높은 처리량과 신뢰성, 낮은 대기 시간이 특징인 새로운 FAME 300 플랫폼에 통합함으로써 스토캐스틱 분석 기능을 팹 HVM 환경에 도입했다. 이제 프랙틸리아의 고객은 자사의 HVM 프로세스를 더 잘 제어하고, 제품의 스토캐스틱 문제를 해결하는 것과 관련하여 수 개월을 절약할 수 있을 것”이라고 덧붙였다.

 

 

새로운 FAME 300 플랫폼은 전체 팹에 대한 모든 SEM 이미지를 측정하는 데 필요한 처리량을 달성할 수 있을 만큼 확장성이 뛰어난 쿠버네티스(Kubernetes) 클러스터 기반 아키텍처를 활용한다. FAME 300은 지연 시간이 줄어들어, 팹에서 전방 피드포워드 또는 피드백 프로세스 제어에 사용할 수 있는 실행 가능한 데이터를 단 몇 분 만에 얻을 수 있게 해준다.

 

FAME 300의 응용 분야에는 인라인 미션 크리티컬 활용 사례와 HVM 모니터 활용 사례 등이 포함되며, 이 밖에 랏 배치, 실시간 일탈 감지, 에지 배치 오류 최적화, 리소그래피 및 식각 공정 장비 모니터링, SEM 장비 모니터링, SEM 플릿 매칭, 식각 장비 챔버 매칭 등 다양한 응용 또한 가능하다. 프랙틸리아는 HVM 모니터만 활용하는 사례를 위한 추가적인 도구 구성도 제공한다.

 

‘편향되지 않은’ 측정으로 웨이퍼에 보다 완벽한 데이터 제공

프랙틸리아의 FAME 솔루션 포트폴리오는 독자적이고 고유한 물리학에 기반한 SEM 모델링 및 데이터 분석 접근법을 사용한다. 이를 통해 SEM 이미지로부터 오는 무작위 오차와 시스템 오차를 측정하고 제거함으로써 이미지 상에 보이는 것이 아니라 실제 웨이퍼 모습을 정확하게 측정한다.

 

FAME은 모든 주요 스토캐스틱 효과를 동시에 측정할 수 있는데, 여기에는 라인 에지 거칠기(LER), 라인 폭 거칠기(LWR), 국부적 CD 균일성(LCDU), 국부적 에지 배치 오차(LEPE), 스토캐스틱 결함등 그 밖에 많은 것들이 포함된다. FAME은 업계 최고 수준의 SNR 에지 검출(경쟁 솔루션 대비 최대 5배) 성능을 제공하며, 각 SEM 이미지로부터 30배 이상 더 많은 데이터를 추출한다.

 

또한, FAME은 모든 SEM 장비업체 및 모든 SEM 장비 모델과 호환되며, SEM 장비간 매칭 성능을 5~20배 개선하고, 이와 동시에 SEM 장비 처리량을 30% 이상 향상시킨다. 이 전례 없는 수준의 매칭 성능은 동일 세대와 동일 유형의 SEM 장비는 물론 다른 세대의 장비, 심지어 다른 장비업체들 사이에서도 보장된다.

 

프랙틸리아의 에드워드 샤리에(Edward Charrier) CEO 겸 사장은 “프랙틸리아의 FILM 기술은 스토캐스틱 분석의 업계 표준”이라고 설명하고, “지금까지 우리는 선도적인 반도체 디바이스 제조사, 주요 장비 제조회사, 원자재 공급업체, 연구 컨소시엄 등의 R&D 분야에서 1,000명 이상의 제품 사용자를 확보했으며, OPC, 리소그래피, 식각, 증착, 측정 및 검사, 재료 및 기타 공정에 걸쳐 수많은 입증된 활용 사례를 보유하고 있다”고 밝혔다.

 

또한, “프랙틸리아 고객들에 의해 측정되는 SEM 이미지 수는 해마다 두 배 이상씩 증가하고 있다. 현재 반도체 업계에서는 프랙틸리아가 개발한 정확한 스토캐스틱 분석 기술을 HVM에 적용할 필요성이 분명히 있다. 프랙틸리아의 고객들은 HVM 패터닝 공정을 보다 정확하고 강력하게 제어할 수 있는 새로운 FAME 300 시스템을 통해 이를 실현할 수 있다”고 덧붙였다.

 

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